Unser Raumtemperatur UHV-System ist mit einem umgebauten und optimierten OMICRON AFM/STM ausgestattet (siehe Abb. unten). Es erlaubt die in situ Präparation mittels Molekularstrahlepitaxie (3-fach Verdampfer) und ist ferner mit einer Sputteranlage, einer LEED/Auger-Einheit und einer Hochtemperaturheizung (2600 K) ausgestattet. Die Präparationskammer erlaubt es, epitaktisch Magnesiumoxidfilme auf Oberflächenzu wachsen. Zusatzlich enthält diese Kammer eine Plasmakanone, die atomaren Stickstoff zur Verfügung stellt.