Holographic masks for computational proximity lithography with EUV radiation

Bellingham, Washington, USA / SPIE (2018) [Buchbeitrag, Beitrag zu einem Tagungsband]

International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018 : 17-20 September 2018, Monterey, California, United States / Kurt G. Ronse, Eric Hendrickx, Patrick P. Naulleau, Paolo A. Gargini, Toshiro Itani (editors) ; sponsored by: SPIE

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Deuter, Valerie
Grochowicz, Maciej
Brose, Sascha Manuel
Biller, J.
Danylyuk, Serhiy

Weitere Autorinnen und Autoren

Taubner, Thomas Günter
Grützmacher, Detlev
Juschkin, Larissa

Identifikationsnummern